世界初*、プラズマを用いたグラフェン製造装置(2016/04/28)

 グラフェンプラットフォーム株式会社(本社:東京)は、同社の技術および特許が、国内プラズマ装置メーカー(所在地:東京都内)の開発・製造するグラフェン製造装置に採用されたと発表した。
 同装置は、世界で初めて*、プラズマを用いてグラフェン製造を行うもので、装置メーカーからの販売が決定している。なお、同装置は、装置メーカーおよびグラフェンプラットフォーム社からの併売となる。 (続きを読む…)

水素原子の吸着によりグラフェンが磁化、nanoGUNEらが報告(2016/04/28)

 スペインのナノテク研究機関 nanoGUNE は、水素原子を吸収することでグラフェンが磁化する現象を報告した。マドリード自治大学、ニール研究所(仏グルノーブル)との共同研究成果。2016年4月22日付けの Science に論文が掲載されている。

グラフェン中の水素原子(出所:nanoGUNE)

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NIMS、グラフェン系材料でトポロジカル状態が発現する新原理を解明(2016/04/28)

 物質・材料研究機構(NIMS)国際ナノアーキテクトニクス研究拠点(WPI-MANA)の古月暁主任研究者のグループは、グラフェンなどハニカム格子上を電子がホップする系において、トポロジカル状態を実現する新しい原理を発見した。2016年4月14日付けの Scientific Reports に論文が掲載されている。

トポロジカル状態を示すハニカム格子の模式図(出所:NIMS)

トポロジカル状態を示すハニカム格子の模式図(出所:NIMS)

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